—匈牙

Magyar Népkoztársaság

集成电路布图保护

  对集成电路布图设计的保护,为保护微电子半导体产品的拓扑图(topography)提供了法律保障,在高科技领域发挥着重要作用。它保护权利持有人对其拓扑图进行复制和商业利用的专有权利,有助于在市场上确立其优势地位。

  在匈牙利,如果希望获得集成电路布图设计保护,需要向HIPO提出申请。

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匈牙利知识产权局

  匈牙利知识产权局(HIPO)是负责知识产权保护的主管机关,成立于1896年。根据匈牙利法规,其职责和权力范围包括:

  (1)负责知识产权领域的官方审查和程序;

  (2)履行版权和与版权相关的某些职责;

  (3)开展知识产权领域与中央政府信息和文档相关的活动;

  (4)参与知识产权立法准备的相关事宜;

  (5)制定和实施政府保护知识产权的战略,启动和执行为此目的所需的政府措施;

  (6)在知识产权领域履行国际和欧洲合作的专业职责;

  (7)评估与研发活动有关的官方和专家任务;

  (8)履行与支持初创企业减税请求有关的登记任务。

 网站:www.hipo.gov.hu

 电话:+36 1 312 4400

 传真:+36 1 474 5534

 E-mail:hipo@hipo.gov.hu

 地址:H - 1081 Budapest, II. János Pál pápa tér 7. Hungary

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受保护的条件

  根据匈牙利《集成电路保护法》第1条,集成电路布图设计权仅保护原创的微电子半导体产品的布图设计(拓扑图)。

  集成电路布图,是指多个元件(其中至少有一个是有源元件)以及全部或部分互连的微电子半导体产品的三维配置;或者是为制造半导体产品而准备的三维配置。

  受保护的集成电路布图设计必须具备原创性。如果布图设计是其创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时在布图设计创作者和集成电路制造者中不是常规的设计,那么该设计具有原创性。

  由普通部件组成的原创性布图设计,可以获得保护。

宽限期

  如果在向HIPO提交集成电路布图设计保护申请之前,该布图设计已经在任何一个国家进行了商业性利用,那么申请必须在首次商业利用之日起2年内提出。

保护的范围

  根据匈牙利《集成电路保护法》第7条,集成电路布图设计权利持有人拥有使用或授权他人用其布图设计的专有权。

  利用,指以商业为目的的再生产,无论是生产包含该布图设计的半导体产品,或生产以其他方式利用该布图设计的产品;以及以商业利用为目的,进口或者销售该布图设计产品或包含该布图设计的半导体产品。

  保护的范围应根据申请中布图设计的图示确定。保护覆盖布图设计的原创部分,不论它可以单独利用,或者与整个布图设计形成不可分割的整体。

  但是,保护不能覆盖以下各项:

   布图设计所依据的概念、程序及系统,或存储在半导体产品中的任何信息;

   以分析、评估或教学为目的复制布图设计,以及在此基础上的创新;

   由第三方独立创作的相同布图设计;

   权利持有人自行或者在其许可下,在欧洲经济区内销售该布图设计产品或包含该布图设计的半导体产品。

  如果某人在以商业目的进口或销售半导体产品时不知道或者没有理由相信其中包含被侵权的集成电路布图设计,其行为不应视为违法。但是,自该人知道所销售产品侵权之日起,他仅可在市场上出售现有库存或订购导致的库存,并应按照权利持有人通常收取的许可费向其支付费用。

  更多内容,可参见HIPO网站

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  集成电路布图设计如果希望在匈牙利获得保护,需要向HIPO提交申请。

  外国人只有在国际条约或互惠的情况下才有权享有保护权,HIPO局长有权对互惠问题作出裁决。

  外国申请人如果在匈牙利提出集成电路布图设计申请的,需委托专利律师或律师办理。

申请程序

  1.提交申请

  根据匈牙利《集成电路保护法》第20条,申请材料中应包含:

   布图设计申请;

   申请人的姓名及地址;

   适用于识别布图设计本质的图示及其他相关文件。

  第21条规定,一项申请,只能为一个布图设计寻求保护。

  2.审查

  HIPO将对申请文件进行检查。如果申请材料未提供申请人的姓名、地址以及适用于识别布图设计本质的图示,则HIPO无需进行下一步程序和实质审查,即可拒绝申请。其他情况下,如果申请材料存在缺陷或者需要对互惠问题做出决定,HIPO会要求申请人提供意见、纠正错误或分案申请。如果申请人未在规定期限内做出答复,申请将被驳回。

  3.授权

  如果申请材料满足审查的所有要求,HIPO将对集成电路布图设计予以注册。HIPO还将签发证书,并在其官方公报(专利和商标公报)上予以公开。

  自公开之日起,任何人都可以查阅该布图设计的图示,并可以获得副本。

  如果申请人将该布图设计的图示标记为商业秘密,应仅供法定程序中一方查阅。在这种情况下,法定程序中一方查阅布图设计图示的权利不得在以后被排除或限制。

保护期

  集成电路布图设计的保护期自申请日或者自在任何国家第一次商业利用之日(以较早者为准)起算,共10年。

  更多内容,可参见《集成电路保护法》。

项目 细目及金额(福林)

申请费

32000

  更多内容,参见《2005年第19号法令-HIPO工业产权程序的行政服务收费》。

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